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J-GLOBAL ID:200903052785741868
細孔構造を有する薄膜及び細孔構造体の製造方法
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
渡辺 徳廣
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2002027055
Publication number (International publication number):2002308623
Application date: Feb. 04, 2002
Publication date: Oct. 23, 2002
Summary:
【要約】【課題】 高い構造規則性を持った細孔構造と結晶性細孔壁を兼ね備えた酸化スズメソ構造体の薄膜およびその製造方法を提供する。【解決手段】 酸化物を含んで構成される細孔構造を有する薄膜であって、該細孔内に界面活性剤を保持し、且つ該細孔壁に酸化スズの結晶を含む薄膜。金属化合物と界面活性剤を含有する反応溶液を用意する工程、該反応溶液を基板上に塗布する工程及び該基板を水蒸気を含む雰囲気中に保持する工程を有する細孔構造体の製造方法。
Claim (excerpt):
金属化合物と界面活性剤を含有する反応溶液を用意する工程、該反応溶液を基板上に塗布する工程及び該基板を水蒸気を含む雰囲気中に保持する工程を有することを特徴とする細孔構造体の製造方法。
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