Pat
J-GLOBAL ID:200903052798062056

共焦点光学装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 木村 高久
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1996085570
Publication number (International publication number):1997274139
Application date: Apr. 08, 1996
Publication date: Oct. 21, 1997
Summary:
【要約】【課題】共焦点光学系に用いるレンズの性能を上げることなく、収差および歪曲を確実に吸収して、正確且つ高精度の測定をなし得るようにする。【解決手段】配列された複数の点光源による光を発生する点光源アレイと、この点光源アレイから発生された光を検査面上に集光する対物レンズと、 前記検査面上の被計測物体で反射された光を前記対物レンズを介して受光する複数の受光部が配列された受光アレイとを具えた共焦点光学装置において、前記対物レンズの収差に応じて前記受光アレイの各受光部の大きさを変化させるようにしている。
Claim (excerpt):
配列された複数の点光源による光を発生する点光源アレイと、この点光源アレイから発生された光を検査面上に集光する対物レンズと、前記検査面上の被計測物体で反射された光を前記対物レンズを介して受光する複数の受光部が配列された受光アレイと、を具えた共焦点光学装置において、前記対物レンズの収差に応じて前記受光アレイの各受光部の大きさを変化させるようにしたことを特徴とする共焦点光学装置。

Return to Previous Page