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J-GLOBAL ID：200903052801029383

ヒドロキシアパタイト濾過ケーキ乾燥体

Inventor： 永井 寛 ,  西村 寧
Applicant, Patent owner： 呉羽化学工業株式会社
Agent (1)： 川口 義雄
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991016622
Publication number (International publication number)：1993176984
Application date： Sep. 25, 1979
Publication date： Jul. 20, 1993
Summary：

【要約】本発明の未焼成なヒドロキシアパタイト濾過ケーキ乾燥体は、元素比Ca/P=1.67〜1.69、平均結晶サイズ 長さ= 187〜1200オングストローム、巾=50〜320 オングストローム、長さ/巾=3.75〜10のヒドロキシアパタイトから形成され、空隙量が 0.2〜0.8 cm3 /gであり且つヒドロキシアパタイト間の平均細孔半径が50〜150 オングストロームであり、1350°Cの温度で1時間焼成してもウイトロック石の生成が認められない。このヒドロキシアパタイト濾過ケーキ乾燥体を焼成すると、高密度、高純度且つ熱安定性に優れた白色又は半透明なヒドロキシアパタイト陶材が得られる

Claim (excerpt)：

元素比Ca/P=1.67〜1.69、平均結晶サイズ 長さ= 187〜1200オングストローム、巾=50〜320 オングストローム、長さ/巾=3.75〜10のヒドロキシアパタイトから形成され、空隙量が 0.2〜0.8 cm3 /gであり且つヒドロキシアパタイト間の平均細孔半径が50〜150 オングストロームであり、1350°Cの温度で1時間焼成してもウイトロック石の生成が認められないことを特徴とするヒドロキシアパタイト濾過ケーキ乾燥体。

IPC (5)：

A61L 27/00 ,  A61K 6/033 ,  C01B 25/32 ,  C04B 38/00 303 ,  C04B 35/00