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J-GLOBAL ID:200903052805345085

反射防止膜の成膜方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 奈良 武
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1994152848
Publication number (International publication number):1995333403
Application date: Jun. 10, 1994
Publication date: Dec. 22, 1995
Summary:
【要約】【目的】 広帯域反射防止膜を簡単に成膜する。【構成】 スパッタリング初期に基板1とターゲット2を対向させ、成膜時間に比例して基板1を連続的に傾けながら成膜する。膜が傾き角度θに比例して多孔質となり、屈折率が連続的に低くなって、広帯域反射防止膜となる。
Claim (excerpt):
スパッタリング成膜の初期に基板をターゲット面に対して対向させ、成膜時間に比例して基板を連続的に傾けながら成膜することを特徴とする反射防止膜の成膜方法。
IPC (2):
G02B 1/11 ,  C30B 23/08

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