Pat
J-GLOBAL ID：200903052813593675
厚膜又は薄膜インダクタ及びそのインダクタンス調整方法
Inventor：
,
,
Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991357454
Publication number (International publication number)：1995106130
Application date： Dec. 03, 1991
Publication date： Apr. 21, 1995
Summary：
【要約】【目 的】中間周波又は高周波回路に使用されるもので、容易に構成できるとともに調整が容易であるインダクタを提供する。【構 成】絶縁基板上に厚膜又は薄膜の導体膜及び磁性材膜で各々インダクタのコイル部及び磁心として構成する。次にインダクタ単体又はインダクタを組み込んだ回路において、その出力を求める特性値に合致するよう磁性材膜をレーザー又はサンドブラスト法により徐々に削除してインダクタンスを調整する。
Claim (excerpt)：
絶縁基板上に導体膜と磁性材膜を設けて構成したインダクタの磁性材膜を徐々に削除して、その面積を減少させることによりそのインダクタンスを調整することを特徴とするインダクタンス調整方法。
IPC (2)：
Return to Previous Page
