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J-GLOBAL ID：200903052826940544

電子伝導体層とイオン伝導体層とを有する積層体およびその製造法

Inventor： 木村 祥子 ,  秋山 善一 ,  藤村 格
Applicant, Patent owner： 株式会社リコー
Agent (1)： 友松 英爾
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991293677
Publication number (International publication number)：1993109429
Application date： Oct. 14, 1991
Publication date： Apr. 30, 1993
Summary：

【要約】【目的】 本発明は、少なくとも一方が無機酸化物からなる電子伝導体層とイオン伝導体層とを有する積層体において、前記両層の表面積が広く反応効率が高く、電極反応における電子やイオンの移動が良好な積層体の提供を目的とする。【構成】 少なくとも一方が無機酸化物からなる電子伝導体層とイオン伝導体層とを有する積層体において、前記両層の界面が凹凸状に接触し、その界面の面積が拡大していることを特徴とする積層体。

Claim (excerpt)：

少なくとも一方が無機酸化物からなる電子伝導体層とイオン伝導体層とを有する積層体において、前記両層の界面が凹凸状に接触していることを特徴とする積層体。

IPC (4)：

H01M 10/38 ,  G02F 1/15 507 ,  H01B 1/06 ,  H01M 4/02