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J-GLOBAL ID：200903052844064549

ポジ型フオトレジスト現像液

Inventor： 青山 哲男 ,  福田 秀樹 ,  羽田 真由美 ,  菅原 清
Applicant, Patent owner： 三菱瓦斯化学株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991282048
Publication number (International publication number)：1993094024
Application date： Oct. 02, 1991
Publication date： Apr. 16, 1993
Summary：

【要約】【目的】 本発明は高解像度で、超微細パターンの形成が可能でパターン寸法のバラツキが少なく、優れたパターンプロフィルを与えることができるポジ型フォトレジスト現像液に関する。【構成】 一般式、〔(R1)3 N-R〕+ ・OH- で表される第四級アンモニウム水酸化物水溶液に糖類または糖アルコール類を配合した水溶液からなる。

Claim (excerpt)：

一般式、〔(R1)3 N-R〕+ ・OH- (ただし、式中Rは炭素数1〜3のアルキル基、または炭素数1〜3のヒドロキシ置換アルキル基、R1 は炭素数1〜3のアルキル基を示す)で表される第四級アンモニウム水酸化物水溶液1〜10重量%と糖類または糖アルコール類0.1〜3重量%とを含有するポジ型フォトレジスト現像液。

IPC (2)：

G03F 7/32 ,  H01L 21/027

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特開平3-087838
  
• 特開昭64-019344
  
• 特開昭63-259560