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J-GLOBAL ID：200903052857691186
基板表面のドライ・クリーニング方法
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
上島 淳一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993195538
Publication number (International publication number)：1995074135
Application date： Jul. 13, 1993
Publication date： Mar. 17, 1995
Summary：
【要約】【目的】有機溶剤や超音波を用いることなく基板表面のクリーニングを行うことができるようにしたものであって、有機溶剤を用いた超音波洗浄などのウェット・プロセスによるクリーニング方法に代わる、実用性に優れた新規なドライ・プロセスによる基板表面のドライ・クリーニング方法を提供する。【構成】表面に除去対象物としての付着物を有した基板に対し、短波長のパルス状の出力ビームを持つレーザを照射して、上記基板の上記表面に付着した上記付着物を除去するようにした。
Claim (excerpt)：
表面に除去対象物としての付着物を有した基板に対し、短波長のパルス状の出力ビームを持つレーザを照射して、前記基板の前記表面に付着した前記付着物を除去するようにしたことを特徴とする基板表面のドライ・クリーニング方法。
IPC (4)：
H01L 21/304 341
, C21D 1/34
, C23G 5/00
, H01L 21/3065
