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J-GLOBAL ID：200903052873095267

ネガ型ホトレジスト組成物

Inventor： 金子 文武 ,  藤村 悟史 ,  宮入 美和 ,  立川 俊和 ,  小林 政一
Applicant, Patent owner： 東京応化工業株式会社
Agent (1)： 阿形 明 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998256635
Publication number (International publication number)：2000089459
Application date： Sep. 10, 1998
Publication date： Mar. 31, 2000
Summary：

【要約】【課題】 0.20μm以下の微細なレジストパターン形成において、感度、解像性に優れ、しかも孤立レジストパターンの断面形状、真上及び真横から観察される形状が矩形に近い良好な形状を有するレジストパターンが得られるネガ型ホトレジスト組成物を提供する。【解決手段】 (A)p-ヒドロキシスチレンとm-ヒドロキシスチレンとの共重合体からなるアルカリ可溶性樹脂、(B)放射線照射により酸を発生するN-スルホニルオキシイミド化合物及び(C)架橋剤を含有してなるネガ型ホトレジスト組成物とする。

Claim (excerpt)：

(A)p-ヒドロキシスチレンとm-ヒドロキシスチレンとの共重合体からなるアルカリ可溶性樹脂、(B)放射線照射により酸を発生するN-スルホニルオキシイミド化合物及び(C)架橋剤を含有してなるネガ型ホトレジスト組成物。

IPC (3)：

G03F 7/038 601 ,  G03F 7/027 ,  H01L 21/027

FI (3)：

G03F 7/038 601 ,  G03F 7/027 ,  H01L 21/30 502 R

F-Term (9)：

2H025AA03 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD01 ,  2H025BE00 ,  2H025CB17 ,  2H025CB52 ,  2H025CC17