Pat

J-GLOBAL ID：200903052932227580

研磨用合成物および研磨方法

Inventor： ブランカレオニ グレゴリー ,  クック リー メルボルン
Applicant, Patent owner： ローデル インコーポレイテッド
Agent (1)： 辻本 一義
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：1995501033
Publication number (International publication number)：1996510437
Application date： May. 25, 1994
Publication date： Nov. 05, 1996
Summary：

【要約】金属とシリカの複合材を含む、シリコン、シリカ、あるいはケイ酸塩を含有する材料を研磨するための、水性媒体、研磨粒子、酸化剤、及び、シリカ除去速度を抑える陰イオンからなる改良された合成物を提供する。陰イオンは、少なくとも2つの酸グループを含み、第1の解離可能酸のpKaが、研磨合成物のpHより大幅には大きくない化合物から得られる。さらに、加工品の表面を研磨し、平坦化するための合成物を使用する方法及びこの方法から製造される製品を提供する。

Claim (excerpt)：

水性媒体、研磨粒子、酸化剤、およびシリカの除去速度を抑制する一つあるいは複数の化合物から成る、金属とシリカの複合材を研磨する合成物であって、前記各化合物が少なくとも2つの酸グループを有し、第1の解離可能酸のpKaが研磨合成物のpHより大幅には大きくない研磨合成物。

IPC (5)：

C04B 41/91 ,  B24B 37/00 ,  C23F 1/24 ,  C23F 1/30 ,  H01L 21/304 321

FI (5)：

C04B 41/91 Z ,  B24B 37/00 H ,  C23F 1/24 ,  C23F 1/30 ,  H01L 21/304 321 P

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特開昭62-101034
  
• 特開平2-278822
  
• 特開平2-109332