真空紫外線用光学材料

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner： , ,
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998252183
Publication number (International publication number)：2000086259
Application date： Sep. 07, 1998
Publication date： Mar. 28, 2000
Summary：

【要約】【構成】本願発明の目的は、紫外線の照射を続けても、欠陥の発生が一定量にとどまり、紫外線の透過率の経時低下がない真空紫外線用光学材料を提供することにある。【解決手段】四塩化ケイ素に代表される高純度原料を用いて製造される合成シリカガラスからなり、OH基含有量が30〜70ppm、Cl濃度が1ppm未満であり、アルカリおよびアルカリ土類金属、遷移金属、その他の金属不純物濃度は各元素が10ppb未満、それらの合計量が50ppb以下であり、波長160〜300nmの紫外線を照射し続けても172〜200nmにおける透過率が40%以上である真空紫外線用光学材料。

Claim (excerpt)：

四塩化ケイ素に代表される高純度原料を用いて製造される合成シリカガラスからなり、OH基含有量が30〜70ppm、Cl濃度が1ppm未満であり、アルカリおよびアルカリ土類金属、遷移金属、その他の金属不純物濃度は各元素が10ppb未満、それらの合計量が50ppb以下であり、波長160〜300nmの紫外線を照射し続けても172〜200nmにおける透過率が40%以上である真空紫外線用光学材料。

IPC (3)：

C03B 20/00 , C03C 3/06 , G02B 1/00

FI (4)：

C03B 20/00 F , C03B 20/00 K , C03C 3/06 , G02B 1/00

F-Term (58)：

4G014AH15 , 4G014AH23 , 4G062AA04 , 4G062AA11 , 4G062BB20 , 4G062DA01 , 4G062DA10 , 4G062DB01 , 4G062DC01 , 4G062DD01 , 4G062DE01 , 4G062DF01 , 4G062EA01 , 4G062EA10 , 4G062EB01 , 4G062EC01 , 4G062ED01 , 4G062EE01 , 4G062EF01 , 4G062EG01 , 4G062FA01 , 4G062FA10 , 4G062FB01 , 4G062FC01 , 4G062FD01 , 4G062FE01 , 4G062FF01 , 4G062FG01 , 4G062FH01 , 4G062FJ01 , 4G062FK01 , 4G062FL01 , 4G062GA01 , 4G062GA10 , 4G062GB01 , 4G062GC01 , 4G062GD01 , 4G062GE01 , 4G062HH01 , 4G062HH03 , 4G062HH05 , 4G062HH07 , 4G062HH09 , 4G062HH11 , 4G062HH13 , 4G062HH15 , 4G062HH17 , 4G062JJ01 , 4G062JJ03 , 4G062JJ05 , 4G062JJ06 , 4G062JJ07 , 4G062KK01 , 4G062KK03 , 4G062KK05 , 4G062KK07 , 4G062MM02 , 4G062NN16

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

光学用合成石英ガラス材及びその製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-210844 Applicant：住友金属工業株式会社, 住金石英株式会社
光学用合成石英ガラス及びその製造方法並びにその用途
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-266878 Applicant：東ソー株式会社
フオトマスク用石英ガラス基板
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平3-327151 Applicant：旭硝子株式会社

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