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J-GLOBAL ID：200903052941640740
熱処理装置
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
大井 正彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991339570
Publication number (International publication number)：1993152225
Application date： Nov. 30, 1991
Publication date： Jun. 18, 1993
Summary：
【要約】【目的】 被処理体の熱処理中と移動中における面内温度の均一性を高めることができる熱処理装置を提供することにある。【構成】 処理容器と、この処理容器内に配置された被処理体の処理面に対向するよう配置したメイン加熱源と、前記被処理体をその側部から加熱するために前記処理容器の外周を取囲むよう配置した補助加熱源と、前記処理容器と前記補助加熱源との間に配置した熱緩衝部材とを備えてなることを特徴とする。
Claim (excerpt)：
処理容器と、この処理容器内に配置された被処理体の処理面に対向するよう配置したメイン加熱源と、前記被処理体をその側部から加熱するために前記処理容器の外周を取囲むよう配置した補助加熱源と、前記処理容器と前記補助加熱源との間に配置した熱緩衝部材とを備えてなることを特徴とする熱処理装置。
Patent cited by the Patent：
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