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J-GLOBAL ID:200903052943776178
電磁波による分析装置
Inventor:
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Applicant, Patent owner:
Agent (1):
逢坂 宏
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1994102146
Publication number (International publication number):1995286975
Application date: Apr. 15, 1994
Publication date: Oct. 31, 1995
Summary:
【要約】【構成】 分析されるべき対象物5に高輝度X線等の電磁波を照射する照射手段(線源51、モノクロメータ2、コリメータスリット3)と、この照射によって前記対象物から発生する前記対象物に固有の電磁波(特に螢光X線39)を検出する半導体検出器8等の検出手段とを有し、更に、前記対象物と前記照射手段との間にスリット40等のバックグラウンド低減手段が設けられている、電磁波による分析装置(特に全反射螢光X線分析装置50)。【効果】 バックグラウンドを十二分に減少させて検出感度(S/N比)を向上させることができ、かつ、高輝度の放射電磁波が使用可能となって検出感度を一層高めることができる。
Claim (excerpt):
分析されるべき対象物に電磁波を照射する照射手段と、この照射によって前記対象物から発生する前記対象物に固有の電磁波を検出する検出手段とを有し、更に、前記対象物と前記照射手段との間にバックグラウンド低減手段が設けられている、電磁波による分析装置。
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