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J-GLOBAL ID：200903052998356941

金属配線形成方法

Inventor： 村上 幸広
Applicant, Patent owner： 日本モトローラ株式会社
Agent (1)： 藤村 元彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993336899
Publication number (International publication number)：1995201849
Application date： Dec. 28, 1993
Publication date： Aug. 04, 1995
Summary：

【要約】【目的】 高精細かつ高密度の金属配線加工ができ、金属配線の酸化を防止できる金属配線形成方法を提供する。【構成】 金属配線形成方法は、基板表面に設けられた配線用の金属膜上に酸化防止膜を形成する工程と、酸化防止膜上に該酸化防止膜を部分的に露出せしめるマスクを形成する工程と、酸化防止膜の露出部を通して、ハロゲンイオンを金属膜へイオン注入し、ハロゲン化金属からなるハロゲン化金属分布領域を形成する工程と、溶剤及びハロゲン塩からなる2成分系エッチング剤を酸化防止膜の露出部に接触せしめ、該酸化防止膜及びハロゲン化金属分布領域を除去する工程と、基板の洗浄乾燥後、酸化防止膜を少なくとも金属配線の側壁に形成する工程とを含む。これによれば、ハロゲンイオンの金属膜へのイオン注入により寸法精度の高いハロゲン化金属分布領域を形成でき、これを2成分系エッチング剤により異方性エッチングが可能となり高精細かつ高密度の金属配線加工ができるとともに、金属配線の酸化を防止できる。

Claim (excerpt)：

基板表面に設けられた配線用の金属膜上に酸化防止膜を形成する工程と、前記酸化防止膜上に該酸化防止膜を部分的に露出せしめるマスクを形成する工程と、前記酸化防止膜の露出部を通して、ハロゲンイオンを前記金属膜へイオン注入して、ハロゲン化金属からなるハロゲン化金属分布領域を形成する工程と、溶剤及びハロゲン塩からなる2成分系エッチング剤を前記酸化防止膜の露出部に接触せしめ、該酸化防止膜及びハロゲン化金属分布領域を除去する工程と、基板の洗浄乾燥後、酸化防止膜を少なくとも前記金属配線の側壁に形成する工程とを含むことを特徴とする金属配線形成方法。