プロセス・モジュールにおいてプラズマを点火する装置並びに方法

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：石田喜樹
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995006678
Publication number (International publication number)：1995278821
Application date： Jan. 19, 1995
Publication date： Oct. 24, 1995
Summary：

【要約】【目的】サンプルを反応性プラズマに曝す装置並びに方法の改善をはかり、プロセス・モジュール内でのプラズマ点火を効率よく行う。【構成】本発明のシステムは、一対の電極と、電極の内一つに連結される高周波発生器と、を備える。一対の電極間に注入されたガスはイオン化され、プラズマに変換される。本発明のシステムは、(1)約1センチメートル未満の小さなギャップを介して隔てて配置される一対の電極間で、シラン等のガスをイオン化する点火手段と、(2)分子をプラズマに変換させる高周波、例えば60MHz、で作動する高周波エネルギー発生器と、を備える。点火手段としては、電子源、紫外線源、第二高周波エネルギー発生器、放射線源等が挙げられる。本発明に従って構成される、わずかなギャップを介して配置される電極対を有するプロセス・モジュールは、高周波エネルギーを用いた高速度での蒸着を可能にし、高い生産効率を実現する。

Claim (excerpt)：

反応性プラズマにサンプルを曝すためのプラズマ・プロセス・モジュールにおいて、前記モジュール内に備えられる第一高周波電極と、前記第一電極から間隔をおいて前記モジュール内に備えられる第二高周波電極で、両電極間に約1センチメートル未満のほぼ均一なギャップを形成するように配置される第二高周波電極と、前記第一電極と前記第二電極との間に注入されるガスをイオン化する手段と、注入されたガスの分子をプラズマに変える第一高周波発生手段で、前記第二電極に連結されて、第一周波数を発生する第一高周波発生手段と、を備えることを特徴とするプラズマ・プロセス・モジュール。

IPC (5)：

C23C 16/50 , C23C 14/34 , C23C 16/48 , C23F 4/00 , H05H 1/46

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (14)

特開昭61-265820
特開昭61-265820
特開平4-326725

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