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J-GLOBAL ID：200903053054919699
レジストリンス液、及びレジスト現像処理法
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
若林 忠
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993146137
Publication number (International publication number)：1995140674
Application date： Jun. 17, 1993
Publication date： Jun. 02, 1995
Summary：
【要約】【目的】 レジストの現像処理工程でのリンス液として使用してきた純水の表面張力が大き過ぎることによって生じるパターン変形の問題を解決し、そのための解像性を良好にできるレジストリンス液を提供し、かつ該レジストリンス液を用いたレジスト現像処理法を提供する。【構成】 ノボラック樹脂、ヒドロキシポリスチレン樹脂を母材とするレジスト材料のレジスト現像処理において、前記レジスト現像処理に使用するレジストリンス液によってパターン変形する問題を解決するために、表面張力が30〜50dyn/cmの範囲のレジストリンス液を使用することを特徴とする
Claim (excerpt)：
ノボラック樹脂、ヒドロキシポリスチレン樹脂を母材とするレジスト材料のレジスト現像処理法において、前記レジスト現像処理に使用するレジストリンス液に表面張力が30〜50dyn/cmの範囲のレジストリンス液を使用することを特徴とするレジスト現像処理法。
IPC (2)：
G03F 7/32 501
, H01L 21/027
