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J-GLOBAL ID：200903053064941145

基板の洗浄処理方法

Inventor： 前野 純一 ,  水家 次朗 ,  石賀 史男
Applicant, Patent owner： 荒川化学工業株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991355946
Publication number (International publication number)：1993175641
Application date： Dec. 20, 1991
Publication date： Jul. 13, 1993
Summary：

【要約】【構成】 ロジン系ハンダフラックスが付着した基板に、特定のグリコールエーテル系化合物を有効成分として含有してなる洗浄剤を接触せしめ、該基板よりフラックスを洗浄除去し、次いですすぎ剤として低級アルコールもしくはその水溶液または低級アルキルエーテルを接触せしめる。【効果】 非ハロゲン系の洗浄剤により洗浄した基板から該洗浄剤を完全に除去でき、清浄度の非常に高い基板となしうる。すすぎ剤の揮発性に起因して、乾燥工程の所要時間が非常に少なくなり、室温下でも乾燥を行うことができ作業性が大幅に改善され、生産性が向上する。特に、後付け部品を取り付けた修整基板に適用する場合は室温下でも乾燥を行うことができ有利である。

Claim (excerpt)：

ロジン系ハンダフラックスが付着した基板に、一般式(1):【化1】で表されるグリコールエーテル系化合物の少なくとも一種を有効成分として含有してなる非ハロゲン系のロジン系ハンダフラックス洗浄剤を接触せしめ、該基板よりフラックスを洗浄除去し、次いですすぎ剤として低級アルコールもしくはその水溶液または低級アルキルエーテルを接触せしめることを特徴とする基板の洗浄処理方法。

IPC (4)：

H05K 3/26 ,  B23K 1/00 ,  C11D 7/26 ,  C23G 5/032