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J-GLOBAL ID：200903053086397562

フタリド化合物、その製造法および該化合物を用いる記録材料

Inventor： 澤野 文二 ,  中尾 訓 ,  堀内 健一郎 ,  岩崎 泰久
Applicant, Patent owner： 山本化成株式会社
Agent (1)： 森岡 博
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993197871
Publication number (International publication number)：1994093194
Application date： Jul. 14, 1993
Publication date： Apr. 05, 1994
Summary：

【要約】【構成】 本発明は[化1]の一般式(I)で表されるフタリド化合物、その製造法及びこの化合物を用いた記録材料に関する。【化1】(式中、R1とR3は個別にアルキル基、シクロアルキル基またはアラルキル基、R2とR4は個別にメチル基またはフェニル基、R5とR6は個別にアルキル基、シクロアルキル基、アラルキル基またはアリール基、R7は水素、アルキル基、アルコキシ基またはシクロアルコキシ基を示す。R5とR6は結合して窒素原子と共に複素環を形成してもよい。)【効果】 本発明のフタリド化合物を用いた記録材料は、発光波長が570〜780nmの領域にある光源を用いたOCRの読み取りに適している。

Claim (excerpt)：

[化1]の一般式(I)で表されるフタリド化合物。【化1】(式中、R1とR3は個別にアルキル基、シクロアルキル基またはアラルキル基、R2とR4は個別にメチル基またはフェニル基、R5とR6は個別にアルキル基、シクロアルキル基、アラルキル基またはアリール基、R7は水素、アルキル基、アルコキシ基またはシクロアルコキシ基を示す。R5とR6は結合して窒素原子と共に複素環を形成してもよい。)

IPC (2)：

C09B 11/02 ,  B41M 5/145