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J-GLOBAL ID:200903053100085110

X線発生装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1995312278
Publication number (International publication number):1997153400
Application date: Nov. 30, 1995
Publication date: Jun. 10, 1997
Summary:
【要約】【課題】 標的部材の裏側に噴出された飛散粒子や標的部材を通過した励起エネルギービームが原因となって発生する、X線発生装置の真空容器内に配置された光学素子の破損、機能・特性の低下を防止することができるX線発生装置を提供すること。【解決手段】 少なくとも、励起エネルギービーム101をカセットまたはカートリッジ106に収納されたテープ状の標的部材105に照射することによりプラズマ103を生成させ、該プラズマ103から輻射されるX線を取り出すX線発生装置において、前記カセットまたはカートリッジ106のうち、前記励起エネルギービーム101の光軸の延長上に位置する部分、及び/または、前記標的部材105の前記励起エネルギービーム101照射位置における法線上に位置する部分に、前記標的部材105を通過した励起エネルギービームまたは前記標的部材105から放出された大部分の飛散粒子102を非接触にて素通りさせる大きさを有する開口部111、112を設けたことを特徴とするX線発生装置。
Claim (excerpt):
少なくとも、励起エネルギービームをカセットまたはカートリッジに収納されたテープ状の標的部材に照射することによりプラズマを生成させ、該プラズマから輻射されるX線を取り出すX線発生装置において、前記カセットまたはカートリッジのうち、前記励起エネルギービームの光軸の延長上に位置する部分、及び/または、前記標的部材の前記励起エネルギービーム照射位置における法線上に位置する部分に、前記標的部材を通過した励起エネルギービームまたは前記標的部材から放出された大部分の飛散粒子を非接触にて素通りさせる大きさを有する開口部を設けたことを特徴とするX線発生装置。
IPC (3):
H05G 2/00 ,  G21K 5/02 ,  G21K 7/00
FI (3):
H05G 1/00 K ,  G21K 5/02 X ,  G21K 7/00
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (1)
  • 特開平4-112498

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