皮膚化粧料

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999320794
Publication number (International publication number)：2001139412
Application date： Nov. 11, 1999
Publication date： May. 22, 2001
Summary：

【要約】【課題】ニキビを防ぐだけでなく、様々な肌の変調を引き起こす過酸化脂質の生成を抑え、さらに適度な保湿感を与え、肌の状態を良好に保つ、皮膚化粧料を提供すること。【解決手段】イソプロピルメチルフェノールと茶抽出物を配合すること。

Claim (excerpt)：

イソプロピルメチルフェノールと茶抽出物を含有することを特徴とする皮膚化粧料。

IPC (2)：

A61K 7/00 , A61K 7/48

FI (3)：

A61K 7/00 C , A61K 7/00 K , A61K 7/48

F-Term (23)：

4C083AA111 , 4C083AA112 , 4C083AA122 , 4C083AB032 , 4C083AC102 , 4C083AC132 , 4C083AC302 , 4C083AC342 , 4C083AC432 , 4C083AC442 , 4C083AC471 , 4C083AC482 , 4C083AC532 , 4C083AD042 , 4C083AD092 , 4C083AD172 , 4C083AD352 , 4C083AD572 , 4C083AD632 , 4C083CC04 , 4C083CC22 , 4C083EE07 , 4C083EE12

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

化粧料
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-239486 Applicant：花王株式会社
新規なふけとめ剤
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-279999 Applicant：三和生薬株式会社
抗菌製剤
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-319153 Applicant：サンスター株式会社

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