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J-GLOBAL ID:200903053108292530

シリコーン型を使用するリソグラフィ技法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (5): 曾我 道治 ,  古川 秀利 ,  鈴木 憲七 ,  梶並 順 ,  大宅 一宏
Gazette classification:公表公報
Application number (International application number):2007531232
Publication number (International publication number):2008512281
Application date: Aug. 31, 2005
Publication date: Apr. 24, 2008
Summary:
方法は、A)パターン化表面を有するシリコーン型を、硬化性(メタ)アクリレート組成物で充填する工程と、B)硬化性(メタ)アクリレート組成物を硬化させて、パターン形状を形成する工程と、C)シリコーン型とパターン形状とを分離する工程と、任意選択で、D)パターン形状をエッチングする工程と、任意選択で、E)シリコーン型を再使用して、工程A)〜D)を繰り返す工程とを含む。硬化性(メタ)アクリレート組成物は、フルオロ官能性(メタ)アクリレート、(メタ)アクリレート、及び光開始剤を含む。
Claim (excerpt):
A)パターン化表面を有するシリコーン型を、硬化性(メタ)アクリレート組成物で充填することであって、該硬化性(メタ)アクリレート組成物が、(a)フルオロ官能性(メタ)アクリレート又はフルオロ官能性(メタ)アクリレートと(メタ)アクリレートとの組合せ、(b)光開始剤、任意選択で(c)抗酸化剤、任意選択で(d)蛍光染料、任意選択で(e)反応性希釈剤、任意選択で(f)光安定剤、任意選択で(g)光感光剤、任意選択で(h)湿潤剤、及び任意選択で(j)紫外放射線吸収剤を含み、 B)前記硬化性(メタ)アクリレート組成物を硬化させて、パターン形状を形成すること、 C)前記シリコーン型と前記パターン形状とを分離すること、 任意選択で、D)前記パターン形状をエッチングすること、及び 任意選択で、E)前記シリコーン型を再使用して、工程A)〜D)を繰り返すこと を含む方法。
IPC (4):
B29C 39/02 ,  H01L 21/027 ,  C08F 20/22 ,  B29C 33/38
FI (4):
B29C39/02 ,  H01L21/30 502D ,  C08F20/22 ,  B29C33/38
F-Term (45):
4F202AA43 ,  4F202AA44 ,  4F202AB04 ,  4F202AB06 ,  4F202AB12 ,  4F202AH73 ,  4F202AJ05 ,  4F202CA01 ,  4F202CB01 ,  4F202CB29 ,  4F202CD02 ,  4F202CD23 ,  4F202CM31 ,  4F204AA43 ,  4F204AA44 ,  4F204AB04 ,  4F204AB06 ,  4F204AB12 ,  4F204AH73 ,  4F204AJ05 ,  4F204EA03 ,  4F204EB01 ,  4F204EB29 ,  4F204EF27 ,  4F204EK24 ,  4F204EK25 ,  4J100AJ02T ,  4J100AL03S ,  4J100AL08Q ,  4J100AL08S ,  4J100AL08T ,  4J100AL09Q ,  4J100AL62P ,  4J100AL69T ,  4J100AL71R ,  4J100AQ08S ,  4J100BA05Q ,  4J100BA08R ,  4J100BA78T ,  4J100BB18T ,  4J100BC07S ,  4J100CA01 ,  4J100CA03 ,  4J100JA38 ,  5F046AA28

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