Pat
J-GLOBAL ID:200903053108292530
シリコーン型を使用するリソグラフィ技法
Inventor:
,
,
,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (5):
曾我 道治
, 古川 秀利
, 鈴木 憲七
, 梶並 順
, 大宅 一宏
Gazette classification:公表公報
Application number (International application number):2007531232
Publication number (International publication number):2008512281
Application date: Aug. 31, 2005
Publication date: Apr. 24, 2008
Summary:
方法は、A)パターン化表面を有するシリコーン型を、硬化性(メタ)アクリレート組成物で充填する工程と、B)硬化性(メタ)アクリレート組成物を硬化させて、パターン形状を形成する工程と、C)シリコーン型とパターン形状とを分離する工程と、任意選択で、D)パターン形状をエッチングする工程と、任意選択で、E)シリコーン型を再使用して、工程A)〜D)を繰り返す工程とを含む。硬化性(メタ)アクリレート組成物は、フルオロ官能性(メタ)アクリレート、(メタ)アクリレート、及び光開始剤を含む。
Claim (excerpt):
A)パターン化表面を有するシリコーン型を、硬化性(メタ)アクリレート組成物で充填することであって、該硬化性(メタ)アクリレート組成物が、(a)フルオロ官能性(メタ)アクリレート又はフルオロ官能性(メタ)アクリレートと(メタ)アクリレートとの組合せ、(b)光開始剤、任意選択で(c)抗酸化剤、任意選択で(d)蛍光染料、任意選択で(e)反応性希釈剤、任意選択で(f)光安定剤、任意選択で(g)光感光剤、任意選択で(h)湿潤剤、及び任意選択で(j)紫外放射線吸収剤を含み、
B)前記硬化性(メタ)アクリレート組成物を硬化させて、パターン形状を形成すること、
C)前記シリコーン型と前記パターン形状とを分離すること、
任意選択で、D)前記パターン形状をエッチングすること、及び
任意選択で、E)前記シリコーン型を再使用して、工程A)〜D)を繰り返すこと
を含む方法。
IPC (4):
B29C 39/02
, H01L 21/027
, C08F 20/22
, B29C 33/38
FI (4):
B29C39/02
, H01L21/30 502D
, C08F20/22
, B29C33/38
F-Term (45):
4F202AA43
, 4F202AA44
, 4F202AB04
, 4F202AB06
, 4F202AB12
, 4F202AH73
, 4F202AJ05
, 4F202CA01
, 4F202CB01
, 4F202CB29
, 4F202CD02
, 4F202CD23
, 4F202CM31
, 4F204AA43
, 4F204AA44
, 4F204AB04
, 4F204AB06
, 4F204AB12
, 4F204AH73
, 4F204AJ05
, 4F204EA03
, 4F204EB01
, 4F204EB29
, 4F204EF27
, 4F204EK24
, 4F204EK25
, 4J100AJ02T
, 4J100AL03S
, 4J100AL08Q
, 4J100AL08S
, 4J100AL08T
, 4J100AL09Q
, 4J100AL62P
, 4J100AL69T
, 4J100AL71R
, 4J100AQ08S
, 4J100BA05Q
, 4J100BA08R
, 4J100BA78T
, 4J100BB18T
, 4J100BC07S
, 4J100CA01
, 4J100CA03
, 4J100JA38
, 5F046AA28
Return to Previous Page