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J-GLOBAL ID：200903053109472800

錫合金被膜の形成方法

Inventor： 大楠 哲司 ,  川本 昌
Applicant, Patent owner： ユケン工業株式会社
Agent (1)： 飯田 堅太郎 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995040982
Publication number (International publication number)：1996239774
Application date： Feb. 28, 1995
Publication date： Sep. 17, 1996
Summary：

【要約】【目的】 錫をベースとする鉛レスの低融点合金被膜(錫合金被膜)を被処理物上に形成する簡便な錫合金被膜の形成方法を提供すること。【構成】 被処理体上に錫合金被膜を形成する方法。不均化反応めっきにより錫層を析出させ、該錫層上に、錫合金を組成する添加金属層を1層または2層以上析出させた後、加熱処理により合金化させる。

Claim (excerpt)：

被処理体上に錫合金被膜を形成する方法であって、不均化反応めっきにより錫層を析出させ、該錫層上に、錫合金を組成する添加金属層を1層または2層以上析出させた後、加熱処理により合金化させる、ことを特徴とする錫合金被膜の形成方法。

IPC (3)：

C23C 28/02 ,  H05K 3/34 505 ,  C23C 18/31

FI (3)：

C23C 28/02 ,  H05K 3/34 505 A ,  C23C 18/31 Z