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J-GLOBAL ID：200903053111862488

高純度水素の製造方法

Inventor： ウィン-チウ・フランシス・フォン ,  ヘンリー・チョイサン・チャン ,  ロバート・マレイ・サジット ,  マニュエル・エデュアード・クインターナ
Applicant, Patent owner： テキサコ・デベロップメント・コーポレーション
Agent (1)： 山川 政樹
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991326804
Publication number (International publication number)：1994024703
Application date： Nov. 15, 1991
Publication date： Feb. 01, 1994
Summary：

【要約】【目的】 高純度水素の製造法を得ることである。【構成】 この方法は(1)少なくとも1つのC1-C3炭化水素を含み、平均分子量が約30までである主な成分を含む製油所廃ガス原料または気体状炭化水素を部分酸化して、一酸化炭素と水素の合成ガス混合物を生ずる過程と、(2)合成ガス混合物を水蒸気と反応させて一酸化炭素を、二酸化炭素と水素を主として含む生ガス混合物へ転化する過程と、(3)生ガス混合物を圧力スイング吸着して生ガス混合物を精製することにより、高純度水素と不純物の除去ガス混合物を生ずる過程と、を含む。

Claim (excerpt)：

(1)製油所廃ガス原料を部分酸化して、一酸化炭素と水素の合成ガス混合物を生ずる過程と、(2)その合成ガス混合物をスチームと反応させて、前記一酸化炭素を、二酸化炭素と水素を主として含む生ガス混合物へ転化する過程と、(3)圧力スイング吸着により前記生ガス混合物を純化して、高純度水素を生じ、不純物のガス混合物を除去する過程と、を備える高純度水素の製造方法。

IPC (3)：

C01B 3/36 ,  C01B 3/48 ,  C01B 3/50

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (6)

• 特開昭62-048793
  
• 特公昭42-015364
  
• 特開昭53-073203
  
• 特開昭59-199501
  
• 特開昭55-015937
  
• 特許第4553981号