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J-GLOBAL ID：200903053123762179
立体表面への膜形成方法
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
石田 長七 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993088357
Publication number (International publication number)：1994296920
Application date： Apr. 15, 1993
Publication date： Oct. 25, 1994
Summary：
【要約】【目的】 凹み部や垂直面部を有する立体表面に微細パターンでパターン膜を形成する。【構成】 粒径が1μm以下の超微粒子1をキャリアガスとともにノズル2の微小孔から基体3の立体表面4に吹き付けると共にノズル2と基体3を相対的に移動させることによって、基体3の立体表面4に超微粒子1のパターン膜5を付着させる。二色成形をおこなったり、フォトリソグラフィの手法を用いたりする必要なく、基体3の立体表面4に超微粒子1のパターン膜5をパターン状に付着させることができる。
Claim (excerpt)：
粒径が1μm以下の超微粒子をキャリアガスとともにノズルの微小孔から基体の立体表面に吹き付けると共にノズルと基体を相対的に移動させ、基体の立体表面に超微粒子のパターン膜を付着させることを特徴とする立体表面への膜形成方法。
IPC (6)：
B05D 1/02
, B05D 1/06
, B05D 1/10
, C23C 24/02
, H01L 21/52
, H05K 3/10
Cited by examiner (7)
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