Pat
J-GLOBAL ID:200903053218404067
耐熱性樹脂前駆体、耐熱性樹脂及び絶縁膜材料並びに半導体装置
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2001302665
Publication number (International publication number):2003105086
Application date: Sep. 28, 2001
Publication date: Apr. 09, 2003
Summary:
【要約】【課題】樹脂前駆体の有機溶剤への溶解性を保持することで、加工性を維持すると共に、使用形態である閉環後の耐熱性を向上させ、また、電気特性、物理特性及び機械特性にも優れ、半導体の層間絶縁膜等の用途に適した樹脂を提供する。【解決手段】 一般式(A)で表わされる繰り返し単位を有するポリベンゾオキサゾール樹脂前駆体、及び該前駆体から、脱水縮合及び架橋反応を経てオキサゾール化して得られる、ポリベンゾオキサゾール樹脂を含む絶縁膜用材料、更には該絶縁膜用材料からなる絶縁膜を有する半導体装置。【化1】式中、m及びnは、その合計が2〜1000までを示し、かつ、次式を満たす整数である。0.05≦(m/(m+n))≦1
Claim (excerpt):
一般式(A)で表わされる構造を有する、ポリベンゾオキサゾール樹脂前駆体。【化1】(但し、式中のm及びnは、m>0、n≧0、2≦m+n≦1000、及び0.05≦m/(m+n)≦1を満たす整数である。また、Xは、式(B)で表される基の中から選ばれ四価の基を示し、Yは、式(C)で表される基の中から選ばれる少なくとも1つの二価の基を示す。Zは、式(D)で表される基の中から選ばれる二価の基を示す。一般式(A)において繰り返し単位の配列は、ブロック的であってもランダム的であっても構わない。)【化2】【化3】【化4】【化5】(但し、式(B)及び式(D)中、X1は式(E)で表される基の中から選ばれる二価の基を示す。また、式(B),式(C),式(D),及び式(E)で表される基における、ベンゼン環上の水素原子は、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、t-ブチル基、フッ素原子、及びトリフルオロメチル基の中から選ばれる、少なくとも1個の基で置換されていても良い。)
IPC (4):
C08G 73/22
, C08J 5/18 CFG
, H01L 21/312
, C08L 79:04
FI (4):
C08G 73/22
, C08J 5/18 CFG
, H01L 21/312 A
, C08L 79:04
F-Term (64):
4F071AA58
, 4F071AF06
, 4F071AF13
, 4F071AF39
, 4F071AF40
, 4F071AF45
, 4F071AH12
, 4F071AH13
, 4F071AH16
, 4F071BA02
, 4F071BB02
, 4F071BC02
, 4J043PA04
, 4J043PA08
, 4J043PA09
, 4J043PA19
, 4J043PC015
, 4J043PC016
, 4J043PC145
, 4J043PC146
, 4J043QB15
, 4J043QB34
, 4J043RA06
, 4J043RA52
, 4J043SA06
, 4J043SA71
, 4J043SB01
, 4J043TA12
, 4J043TA47
, 4J043UA121
, 4J043UA131
, 4J043UA151
, 4J043UA152
, 4J043UA162
, 4J043UA171
, 4J043UA172
, 4J043UA181
, 4J043UA261
, 4J043UA262
, 4J043UB011
, 4J043UB012
, 4J043UB121
, 4J043UB122
, 4J043UB301
, 4J043UB302
, 4J043VA021
, 4J043VA022
, 4J043VA031
, 4J043VA032
, 4J043VA061
, 4J043VA062
, 4J043VA071
, 4J043VA072
, 4J043YA06
, 4J043ZA46
, 4J043ZB11
, 4J043ZB47
, 4J043ZB50
, 5F058AA10
, 5F058AC10
, 5F058AF04
, 5F058AG01
, 5F058AH02
, 5F058AH03
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