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J-GLOBAL ID：200903053235344914

ビーム出射方法及び出射装置並びにこれを用いた円形加速器

Inventor： 田所 昌宏 ,  平本 和夫 ,  廣田 淳一 ,  西 正嗣
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所
Agent (1)： 高田 幸彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993154999
Publication number (International publication number)：1995014699
Application date： Jun. 25, 1993
Publication date： Jan. 17, 1995
Summary：

【要約】【目的】本発明の目的は、出射ビームのエネルギーが変化しても常に高効率でビーム出射が可能なビーム出射方法及び出射装置並びにこれを用いた円形加速器を提供することにある。【構成】制御装置10に出射ビームのエネルギー、エネルギー幅、加速器の動作点(チューン)、及び患者に照射するビームの線量をデータとして入力する。高周波信号発生装置11は出射に必要な周波数成分を有する高周波信号15を発生させる。高周波信号15はゲインコントローラ13により電極7に印加すべき振幅に調整され、高周波電圧16として電極7に印加される。照射室9では放射線モニター8で照射線量を測定し、比較器12は放射線モニター8から出力される照射線量の測定値17と、制御装置10から出力される照射線量の設定値14bとを比較し、測定値17が設定値14bとなるように、ゲインコントローラ13にゲインコントロール信号18を出力し、電極7に印加する高周波電圧16の振幅を制御する。

Claim (excerpt)：

高周波電磁界を用いた円形加速器からのビーム出射方法において、出射ビームのエネルギーを用いて出射に使用する前記高周波電磁界の中心周波数及び周波数幅を求め、該中心周波数及び周波数幅を有する高周波電磁界をビームに印加してビーム出射を行なうことを特徴とするビーム出射方法。