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J-GLOBAL ID:200903053239579452

薄形インダクタ/トランス

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 田村 弘明 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1992036769
Publication number (International publication number):1993275247
Application date: Feb. 24, 1992
Publication date: Oct. 22, 1993
Summary:
【要約】【目的】 絶縁基板上に、スパイラル状平面コイル、絶縁膜、磁性膜を積層することからなる薄形インダクタ/トランスにおいて、インダクタンスを高く、温度上を小さくする。【構成】 絶縁基板および/または絶縁膜に透磁率、飽和密度が大きい酸化物軟質磁性材料を適用する。また、磁性膜に電気抵抗が高く、電力損失の小さい酸化物軟質磁性材料を用いる。【効果】 スパイラル状平面コイルの中心部近傍および最外側部近傍での磁気抵抗が下がり、磁束密度が高まるため、インダクタンスが高くなる。また、磁性膜に金属軟質磁性材料の代わりに、酸化物軟質磁性材料を用いることにより、高周波での渦電流損失による発熱が小さく、温度上昇が小さくなる。
Claim (excerpt):
酸化物軟質磁性材料(ソフトフェライト)の基板上に、スパイラル状平面コイル、絶縁膜、磁性膜を積層することからなる薄形インダクタ/トランス。
IPC (2):
H01F 27/28 ,  H01F 27/32

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