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J-GLOBAL ID：200903053248042658
ホトマスクの製造方法
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
中村 純之助
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992303557
Publication number (International publication number)：1994148866
Application date： Nov. 13, 1992
Publication date： May. 27, 1994
Summary：
【要約】【目的】従来の位相シフトマスクの修正方法とは異なる半透明位相シフトマスクに最適な簡単な欠陥修正工程を含むホトマスクの製造方法を提供すること。【構成】上記目的は、光透明部と光を僅かに通す半透明部とを含み、上記半透明部を通過した光の位相がおよそ180°反転するようにした半透明位相シフトマスクの製造において、半透明部が消失した欠陥部分に遮光膜あるいは半透明膜を選択的に形成する工程を含むことを特徴とするホトマスクの製造方法とすることによって達成することができる。
Claim (excerpt)：
光透明部と光を僅かに通す半透明部とを含み、上記半透明部を通過した光の位相がおよそ180°反転するようにした半透明位相シフトマスクの製造において、半透明部が消失した欠陥部分に遮光膜あるいは半透明膜を選択的に形成する工程を含むことを特徴とするホトマスクの製造方法。
IPC (2)：
Patent cited by the Patent：
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