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J-GLOBAL ID：200903053300894005

高周波加熱装置

Inventor： 堀切 泰 ,  市原 克己 ,  岩渕 康司 ,  伊丹 啓光 ,  安部 貴紀
Applicant, Patent owner： 株式会社日立ホームテック
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994066920
Publication number (International publication number)：1995282973
Application date： Apr. 05, 1994
Publication date： Oct. 27, 1995
Summary：

【要約】【目的】 被加熱物の加熱むらをなくし均一加熱を向上する。【構成】 誘電体からなる受け皿4に被加熱物5を載置し、網目状のスリット6dを有する金属円板からなる回転台6により受け皿4を回転自在に支持するようにした高周波加熱装置において、回転台6の異なる半径R1、R2の円周方向に沿って使用波長λの約1/2の弓形状スロット6a、6bを複数個穿設したことにより、高周波の集中が防止されるとともに金属製の回転台6の下部に進入した高周波を被加熱物5の下面に効率よく導き、被加熱物5の上部の過加熱がなくしかも被加熱物5の下部の加熱不足も解消される。

Claim (excerpt)：

誘電体からなる受け皿(4)に被加熱物(5)を載置し、網目状のスリット(6d)を有する金属円板からなる回転台(6)により受け皿(4)を回転自在に支持するようにした高周波加熱装置において、回転台(6)の異なる半径(R1)(R2)の円周方向に沿って使用波長λの約1/2の弓形状スロット(6a)(6b)を複数個穿設したことを特徴とする高周波加熱装置。

IPC (2)：

H05B 6/78 ,  H05B 6/74