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J-GLOBAL ID：200903053317831732

フッ化物ガラス用CVD原料

Inventor： 内川 英興 ,  松野 繁 ,  吉新 喜市 ,  今田 勝大 ,  渡井 久男 ,  佐藤 建
Applicant, Patent owner： 三菱電機株式会社
Agent (1)： 高田 守
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992099638
Publication number (International publication number)：1993294636
Application date： Apr. 20, 1992
Publication date： Nov. 09, 1993
Summary：

【要約】【目的】 組成の制御性が向上し、良好な特性を有するフッ化物ガラスが再現性よく高速に合成できるフッ化物ガラス用CVD原料を得ることができる。【構成】 成分金属のペンタフルオロプロパノイルピバロイルメタネート誘導体のそれぞれを目的成分比に混合し、この混合物をテトラヒドロフランとイソプロピルアルコール(沸点82.5°C)の体積比1:1の混合溶媒中に、溶質全体が0.3mol%となるように溶解して、フッ化物ガラス用CVD原料とした。反応ガスとして四フッ化炭素を用いてCVD法によりジルコニウム系フッ化物ガラス(55ZrF4-25BaF2-5LaF3-15YF3)を合成した。

Claim (excerpt)：

周期率表のIAないしIVA族金属原子が有機基と結合した有機金属化合物、並びにこの有機金属化合物を溶解し、テトラヒドロフランおよびテトラヒドロフランの沸点よりも高くかつ150°C以下の沸点を有する有機溶剤からなる溶媒を備えたフッ化物ガラス用CVD原料。

IPC (5)：

C03B 8/04 ,  C03C 3/32 ,  C07D307/08 ,  C07F 19/00 ,  G02B 6/00 356