Pat
J-GLOBAL ID：200903053383327506
SVC装置の制御方式
Inventor：
,
,
,
,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
志賀 富士弥 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997158205
Publication number (International publication number)：1999008936
Application date： Jun. 16, 1997
Publication date： Jan. 12, 1999
Summary：
【要約】【課題】 系統の上位リアクトル成分の変動に関係なく連系点電圧一定制御を安定に行う。【解決手段】 SVC装置で系統電圧を一定制御するプラントAに、その規範モデルBとモデル規範形適応制御系(MRAC)からなる適応機構Cを設け、MRACによりPIコントローラ14のPIゲインを適応的に調整する。MRACには、適応パラメータの過度な変動を防止する一次ローパスフィルタ54と、ノイズ成分による適応パラメータの変動抑制する不感帯ブロック55と、無駄時間を与えパルス的な変動を無視するフィルタ56と、適応パラメータの変動を促し収束値を適切な値とする再同定ブロック61を設け、オーバーシュート及びアンダーシュートと応答遅れのない制御を可能にする。
Claim (excerpt)：
SVC装置により系統連系点電圧を一定に制御するSVC装置の制御方式において、制御対象に可調整パラメータが付加されたプラントの動作手本となる規範モデル系と、プラントと規範モデルからの各状態信号に重みをつけて加算して状態誤差を演算する手段と、この状態誤差とプラントの電流指令から適応パラメータを演算する手段とを有し、この適応パラメータをSVC装置の無効電流指令値に乗ずるモデル規範形適応制御系と、を備え、プラントの応答が規範モデルの応答と等しくなるようにSVC装置を制御することを特徴とするSVC装置の制御方式。
IPC (4)：
H02J 3/12
, G05B 13/04
, G05F 1/70
, H02J 3/18
H02J 3/12
, G05B 13/04
, G05F 1/70 E
, H02J 3/18 D
