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J-GLOBAL ID：200903053394289088

インダクタ及びその製造方法

Inventor： 青野 浩二
Applicant, Patent owner： 三菱電機株式会社
Agent (1)： 高田 守
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993306516
Publication number (International publication number)：1995161935
Application date： Dec. 07, 1993
Publication date： Jun. 23, 1995
Summary：

【要約】 (修正有)【目的】 半導体基板上に導体層と磁性体層の積層からなるインダクタを形成する際に、磁性体層の形成工程を簡略にする。【構成】 半導体基板1上に、光照射によって電子を放出する光電子供与基及び光照射によって電子を受容する電子受容基の一方または双方を側鎖として有する光重合性有機物モノマーの層2を設け、これに所要パターンの光を照射して照射部位を重合硬化させ、この硬化層3に重ねて所要パターンの導体層5を形成する。

Claim (excerpt)：

半導体基板上にコイル状パターンに形成された導体層と、この導体層の上下両面またはその片面に積層されている磁性材料層とよりなり、この磁性材料層は光硬化性強磁性有機物の光硬化層であることを特徴とするインダクタ。

IPC (4)：

H01L 27/04 ,  H01L 21/822 ,  H01F 17/00 ,  H01L 21/312

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• インダクタ
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-173874   Applicant：松下電器産業株式会社
• 特開平4-326705
  
• 膜インダクタンス及びその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-322198   Applicant：三菱マテリアル株式会社