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J-GLOBAL ID:200903053406818251
光触媒およびその製造方法並びに水素ガス発生方法
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
大井 正彦
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2007237962
Publication number (International publication number):2009066529
Application date: Sep. 13, 2007
Publication date: Apr. 02, 2009
Summary:
【課題】可視光照射下において優れた水素生成活性を有し、硫黄系還元剤を含有する水溶液から高効率で水素ガスを発生することのできる新規な光触媒およびその製造方法、並びに可視光照射下において温室効果ガスの発生を伴わずに容易に高効率で水素ガスを得ることのできる水素ガス発生方法を提供すること。【解決手段】光触媒は、複合金属硫化物ZnIn2 S4 の結晶格子中の亜鉛イオンの一部が銅イオンよりなる1価の金属イオンと、当該1価の金属イオンと等量のガリウムイオンまたはインジウムイオンよりなる3価の金属イオンとに置換されてなる構造を有する触媒物質よりなり、硫黄系還元剤を含有する水溶液から水素ガスを発生させることを特徴とする。【選択図】なし
Claim (excerpt):
下記構造式(1)で表される複合金属硫化物の結晶格子中の亜鉛イオンの一部が銅イオンよりなる1価の金属イオンと、当該1価の金属イオンと等量のガリウムイオンまたはインジウムイオンよりなる3価の金属イオンとに置換されてなる構造を有する触媒物質よりなり、硫黄系還元剤を含有する水溶液から水素ガスを発生させることを特徴とする光触媒。
IPC (5):
B01J 35/02
, B01J 37/08
, B01J 37/02
, C01B 3/04
, B01J 23/89
FI (5):
B01J35/02 J
, B01J37/08
, B01J37/02 101C
, C01B3/04 A
, B01J23/89 M
F-Term (32):
4G169AA02
, 4G169AA08
, 4G169BA48A
, 4G169BB09A
, 4G169BB09B
, 4G169BC17A
, 4G169BC17B
, 4G169BC18A
, 4G169BC18B
, 4G169BC31A
, 4G169BC31B
, 4G169BC35A
, 4G169BC35B
, 4G169BC70A
, 4G169BC71A
, 4G169BC75A
, 4G169BC75B
, 4G169DA08
, 4G169FA01
, 4G169FB07
, 4G169FB14
, 4G169FB26
, 4G169FB29
, 4G169FC07
, 4G169FC08
, 4G169HA02
, 4G169HB10
, 4G169HC02
, 4G169HC27
, 4G169HD03
, 4G169HE09
, 4G169HF03
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (6)
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