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J-GLOBAL ID:200903053417157001

光ディスク原盤作成用ガラス基板

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 小池 晃 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1994036935
Publication number (International publication number):1995244872
Application date: Mar. 08, 1994
Publication date: Sep. 19, 1995
Summary:
【要約】【目的】 C/Nの高い高品位光ディスクを製造することが可能で、且つ製造コストを低く抑えることが可能な光ディスク原盤作成用ガラス基板を提供する。【構成】 青板ガラス(ソーダライムガラス)等のアルカリ量の多いガラス基板の表面に、SiO2を主成分とする被膜や化学強化法による強化層を形成し、これを光ディスク原盤作成用ガラス基板とする。SiO2を主成分とする被膜は、SiO2系被膜形成用塗布液を塗布し焼成することにより形成する。この被膜は、アルカリ金属溶出防止膜として機能し、その厚さは0.1〜1μmである。強化層は、例えば低温型イオン交換によりナトリウムイオンがイオン半径の大きなカリウムイオンで置換された層で、ガラス基板中のアルカリイオンの移動を制限する。
Claim (excerpt):
表面にSiO2を主成分とする被膜が形成されていることを特徴とする光ディスク原盤作成用ガラス基板。
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (2)
  • 特開昭58-045997
  • 特開昭62-102445
Cited by examiner (4)
  • 特開昭58-045997
  • 特開昭62-102445
  • 特開昭58-045997
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