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J-GLOBAL ID:200903053431162000
蛍光X線分析方法およびその装置
Inventor:
,
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Applicant, Patent owner:
Agent (1):
岡崎 謙秀
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1999256367
Publication number (International publication number):2001083109
Application date: Sep. 09, 1999
Publication date: Mar. 30, 2001
Summary:
【要約】【課題】 対称性エネルギースペクトルだけではなく、非対称性エネルギースペクトルの蛍光X線を発生する原子種に対しても優れた定量分析や定性分析を行うことができ、蛍光X線分析の分析精度および自由度を飛躍的に高めることのできる、新しい蛍光X線分析方法およびその装置を提供する。【解決手段】 X線または粒子線の照射により試料から発生する蛍光X線をエネルギースペクトルとして測定し、その実測エネルギースペクトルから試料分析を行う蛍光X線分析方法において、非対称因子にしたがって対称性および非対称性のエネルギープロファイルを表すことのできる非対称性プロファイル関数を用いて、実測エネルギースペクトルに対するプロファイルフィッティングを行う。
Claim (excerpt):
X線または粒子線の照射により試料から発生する蛍光X線をエネルギースペクトルとして測定し、その実測エネルギースペクトルから試料分析を行う蛍光X線分析方法において、非対称因子にしたがって対称性および非対称性のエネルギープロファイルを表すことのできる非対称性プロファイル関数を用いて、実測エネルギースペクトルに対するプロファイルフィッティングを行うことを特徴とする蛍光X線分析方法。
F-Term (18):
2G001AA01
, 2G001AA09
, 2G001BA04
, 2G001BA28
, 2G001CA01
, 2G001DA01
, 2G001EA03
, 2G001FA01
, 2G001FA06
, 2G001FA08
, 2G001FA09
, 2G001FA10
, 2G001FA11
, 2G001FA18
, 2G001FA29
, 2G001FA30
, 2G001GA01
, 2G001KA01
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