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J-GLOBAL ID：200903053476109401

高密度磁気記録媒体パターンドメディアとその製造方法

Inventor： 中谷 功
Applicant, Patent owner： 科学技術振興事業団 ,  科学技術庁金属材料技術研究所長
Agent (1)： 西澤 利夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999284946
Publication number (International publication number)：2001110050
Application date： Oct. 05, 1999
Publication date： Apr. 20, 2001
Summary：

【要約】【課題】 パターンドメディアの生産性に富む合理的な構造と環境負荷の少ない合理的な製造プロセスを提供する。【解決手段】 高密度磁気記録媒体パターンドメディアであって、メディア基板上に被覆されたマトリクス薄膜?Gもしくはメディア基板には凹状のトレンチ配列?Cがエッチングにより形成されており、このトレンチ配列?Cの凹部には、マトリクス薄膜もしくはメディア基板表面高さまで磁性材料が埋設されて磁気ビット配列?Eが形成されていることを特徴とする高密度磁気記録媒体パターンドメディアとする。

Claim (excerpt)：

高密度磁気記録媒体パターンドメディアであって、メディア基板上に被覆されたマトリックス薄膜もしくはメディア基板には凹状のトレンチ配列がエッチングにより形成されており、このトレンチ配列の凹部には、マトリックス薄膜もしくはメディア基板表面高さまで磁性材料が埋設されて磁気ビット配列が形成されていることを特徴とする高密度磁気記録媒体パターンドメディア。

IPC (2)：

G11B 5/85 ,  G11B 5/65

FI (2)：

G11B 5/85 Z ,  G11B 5/65

F-Term (8)：

5D006AA01 ,  5D006BB07 ,  5D006DA03 ,  5D006EA03 ,  5D112AA05 ,  5D112AA18 ,  5D112AA24 ,  5D112FA02

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• 特開平3-137824
  
• 特開平2-201732
  
• 特開平3-137824
  
• 特開平2-201732