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J-GLOBAL ID：200903053504711996

荷電粒子ビ-ム出射方法及びその出射装置

Inventor： 田所 昌宏 ,  平本 和夫 ,  廣田 淳一 ,  西 正嗣
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所
Agent (1)： 作田 康夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999074961
Publication number (International publication number)：1999312599
Application date： Jun. 25, 1993
Publication date： Nov. 09, 1999
Summary：

【要約】【課題】荷電粒子ビームの照射線量を必要とされる照射線量値に制御することができる荷電粒子ビーム出射方法及びその出射装置を提供する。【解決手段】照射室9において放射線モニター8で照射線量を測定し、比較器12が放射線モニター8から出力される照射線量の測定値17と制御装置10から出力される照射線量の設定値14bとを比較して、測定値17が設定値14bとなるようにゲインコントローラ13にゲインコントロール信号18を出力し、電極7に印加する高周波電圧16の振幅を制御する。

Claim (excerpt)：

荷電粒子ビームに高周波電磁界を印加することにより加速器から荷電粒子ビームを出射する荷電粒子ビーム出射方法であって、前記加速器から出射された荷電粒子ビームによる照射線量を測定し、測定された照射線量に応じて前記高周波電磁界の強度を制御することを特徴とする荷電粒子ビーム出射方法。

IPC (3)：

H05H 7/10 ,  G21K 5/04 ,  H05H 13/04

FI (3)：

H05H 7/10 ,  G21K 5/04 D ,  H05H 13/04 G