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J-GLOBAL ID：200903053525603883
加速度センサの製造方法
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
大垣 孝
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992303953
Publication number (International publication number)：1994151890
Application date： Nov. 13, 1992
Publication date： May. 31, 1994
Summary：
【要約】【目的】 均一な厚さの稼働部を有する加速度センサの製造方法を提供する。【構成】 下部電極を兼ねる金属基板の表面に絶縁膜を設けたものを下地40とする。この下地40上に、エッチングストッパ膜42として、厚さ数μmのSi3 N4 膜、中間膜44として、厚さ数十μmのSiO2 膜、予備膜46として、厚さ数μmのSi膜を順次に形成する。次に、上部電極50および荷重部52を形成した後、中間膜44を露出する開口部を形成し、露出した中間膜44の部分および稼働部となる領域48の下側の中間膜44を少なくともエッチング除去して空隙部58を形成することにより、稼働部60を形成すると共に、エッチングされなかった中間膜部分をスペーサ層62として残存させる。
Claim (excerpt)：
スペーサ層の表面上から張り出した薄膜状の稼働部に加速度センサの主要部を備えた当該加速度センサを製造するにあたり、下地の上側にエッチングストッパ膜を形成する工程と、該エッチングストッパ膜上に中間膜を形成する工程と、該中間膜上に前記稼働部を形成するための薄膜を形成する工程と、該薄膜の前記稼働部となる領域中に加速度センサの主要部を形成する工程と、然る後、前記薄膜のうち、前記稼働部となる領域の周辺部に前記中間膜を露出する開口部を形成する工程と、前記露出した中間膜の部分および前記稼働部となる領域の下側の中間膜の部分を少なくともエッチング除去して空隙部を形成することにより、前記稼働部を形成すると共に、エッチングされなかった中間膜部分をスペーサ層として残存させる工程とを含むことを特徴とする加速度センサの製造方法。
IPC (2)：
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