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J-GLOBAL ID:200903053551321985
3次元形状測定機及び同機における校正方法、ステージ装置、位置制御方法
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
伊東 哲也
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2000242196
Publication number (International publication number):2002054920
Application date: Aug. 10, 2000
Publication date: Feb. 20, 2002
Summary:
【要約】【課題】 3次元形状測定機に使用される基準平面ミラーが理想的な平面形状を有していなくとも、実機上でミラーの形状を測定し理想的な平面形状に校正することで、3次元形状測定機で測定する物体形状の絶対値について、より高精度な測定を実現させる。【解決手段】 被測定物1に沿って走査するプローブ2aの位置情報を基準平面ミラー6〜8と測長手段9a〜9cにより検出し、もって被測定物1の3次元形状を測定する測定機において、例えばZステージ5を移動させて測定手段10aをZ軸方向に動かしながらミラー6の表面形状を検出し、かつ移動時に生じるZステージ5の運動誤差を別の測定手段10eによって検出し、運動誤差による表面形状検出の誤差を除いてミラー6の真の表面形状を算出した後、ミラー6表面の理想的な平面形状からの誤差を校正する。
Claim (excerpt):
被測定物の形状に沿って走査するプローブの位置情報を各方向検出用の複数の基準平面ミラーと複数の測長手段を用いて検出し、もって該被測定物の3次元形状を測定する3次元形状測定機において、前記基準平面ミラーの表面に沿って第1測定手段を相対移動させながら第1測定手段によって該表面の形状を検出し、かつ該移動時に生じた前記第1測定手段と前記基準平面ミラーとの間の相対運動誤差を検出し、これら検出結果を基に該相対運動誤差に起因する前記表面形状検出の誤差を除いて該基準平面ミラーの表面形状情報を算出し、前記プローブの位置情報を検出する際に該基準平面ミラーの表面の平面からの誤差分を校正することを特徴とする、3次元形状測定機における校正方法。
IPC (5):
G01B 21/20 101
, G01B 11/24
, G01B 21/30 101
, G01N 13/10
, G12B 5/00
FI (5):
G01B 21/20 101
, G01B 21/30 101 Z
, G01N 13/10 C
, G12B 5/00 T
, G01B 11/24 A
F-Term (35):
2F065AA04
, 2F065AA53
, 2F065DD03
, 2F065FF42
, 2F065FF55
, 2F065GG04
, 2F065LL12
, 2F065LL36
, 2F065LL37
, 2F065MM13
, 2F065MM23
, 2F065MM28
, 2F065PP12
, 2F065QQ00
, 2F065QQ17
, 2F065QQ23
, 2F065QQ25
, 2F069AA66
, 2F069EE04
, 2F069GG04
, 2F069GG07
, 2F069GG65
, 2F069GG73
, 2F069HH09
, 2F069HH30
, 2F069JJ13
, 2F069MM24
, 2F069MM32
, 2F069MM34
, 2F078CA08
, 2F078CB02
, 2F078CB05
, 2F078CB09
, 2F078CB10
, 2F078CC11
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