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J-GLOBAL ID：200903053552407638

ポジ型レジスト組成物

Inventor：
稲部 陽樹

About 稲部 陽樹

, 
佐々木 知也

About 佐々木 知也


Applicant, Patent owner：
富士写真フイルム株式会社

About 富士写真フイルム株式会社


Agent (5)： 小栗 昌平 ,  本多 弘徳 ,  市川 利光 ,  高松 猛 ,  濱田 百合子
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003280237
Publication number (International publication number)：2005043819
Application date： Jul. 25, 2003
Publication date： Feb. 17, 2005
Summary：
【課題】 200nm以下、特にF2エキシマレーザー光(157nm)の露光光源の使用に好適なポジ型レジスト組成物を提供することであり、具体的には現像欠陥やスカムの発生が低減され、更にはデフォーカスラチチュードにも優れるポジ型レジスト組成物を提供する。【解決手段】 (A)酸の作用により分解しアルカリ可溶性基を生じる基を含有する樹脂、及び、(B)活性光線または放射線の作用により酸を発生する化合物を少なくとも2種類含有する組成物であって、樹脂(A)が有する酸の作用により分解し脱離する基がフッ素原子を含有する特定の基を有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。
Claim (excerpt)：
(A) 酸の作用により分解しアルカリ可溶性基を生じる基を少なくとも1種含有する樹脂、及び (B) 活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物として、 (B1)少なくとも1つのフッ素原子で置換された脂肪族あるいは芳香族のスルホン酸を発生する化合物、 (B2)フッ素原子を含有しない脂肪族あるいは芳香族のスルホン酸を発生する化合物、 (B3)少なくとも1つのフッ素原子で置換された脂肪族あるいは芳香族のカルボン酸を発生する化合物、および、 (B4)フッ素原子を含有しない脂肪族あるいは芳香族のカルボン酸を発生する化合物 から選ばれる少なくとも2種の化合物、 を含有する組成物であって、 樹脂(A)が有する、酸の作用により分解し脱離する基の中に式(Y)で示される基を有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。
IPC (3)：
G03F7/039 ,  C08F20/28 ,  H01L21/027
FI (3)：
G03F7/039 601 ,  C08F20/28 ,  H01L21/30 502R
F-Term (33)：
2H025AA02 ,  2H025AA04 ,  2H025AB16 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB41 ,  4J100AB07Q ,  4J100AL08P ,  4J100AL26P ,  4J100AR09Q ,  4J100AR11Q ,  4J100BA03P ,  4J100BA03Q ,  4J100BA04P ,  4J100BA04Q ,  4J100BA08P ,  4J100BA08Q ,  4J100BA10P ,  4J100BA20P ,  4J100BB17Q ,  4J100BB18P ,  4J100BC04P ,  4J100BC04Q ,  4J100BC08P ,  4J100BC09P ,  4J100CA04 ,  4J100CA05 ,  4J100DA01 ,  4J100DA04 ,  4J100JA38
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (2)
  • 国際公開02/33489号パンフレット
  • 国際公開02/092651号パンフレット
Cited by examiner (5)
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