Pat

J-GLOBAL ID：200903053577012891

パターン検査装置およびパターン検査方法

Inventor： 牧野 浩士 ,  品田 博之 ,  村越 久弥 ,  野副 真理 ,  ▲高▼藤 敦子 ,  梅村 馨 ,  矢島 裕介 ,  長谷川 正樹 ,  宇佐見 康継 ,  岩淵 裕子
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所
Agent (1)： 高橋 明夫 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998220874
Publication number (International publication number)：2000057985
Application date： Aug. 04, 1998
Publication date： Feb. 25, 2000
Summary：

【要約】【課題】荷電粒子線を用いた、ステージ連続移動方式のSEM式パターン検査において、ステージ連続移動に伴う被検査領域の位置補正と偏向ノイズによる像質の劣化の低減とを両立することにより、パターン検査を高速かつ精度良く行うこと。【解決手段】荷電粒子線を高速偏向させる主偏向装置とステージ移動に連動して被検査領域の位置ずれを補正するように荷電粒子線を偏向させる補助偏向装置とを併用して被検査領域の位置補正制御を行なう。

Claim (excerpt)：

荷電粒子発生装置と、パターンが形成された試料が設置可能なステージと、前記荷電粒子発生装置からの第1の荷電粒子線を前記試料上に収束する収束装置と、前記第1の荷電粒子線を一方向に偏向する主偏向装置と、前記第1の荷電粒子線を偏向する補助偏向装置と、前記ステージを該ステージ面内で前記一方向と交叉する方向に移動させるステージ駆動装置と、 前記試料への前記第1の荷電粒子線照射により該試料から発生する第2の荷電粒子を検出する検出装置と、該検出装置からの信号を基に、前記第1の荷電粒子線により走査された前記試料の領域に対応する画像を生成する画像生成装置と、前記ステージの基準方向に対する、前記試料の設置ずれ角度α°を算出する装置とを備え、前記試料の設置ずれ角度α°に基因して発生する、前記ステージの前記移動に伴い増加あるいは減少する、前記主偏向装置による走査領域と前記試料における意図された被検査領域の位置ずれを相殺するよう、該ステージの移動に同期して前記第1の荷電粒子線を前記補助偏向装置により偏向することを特徴とするパターン検査装置。

IPC (5)：

H01J 37/147 ,  G01N 23/225 ,  G01R 31/302 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/66

FI (5)：

H01J 37/147 B ,  G01N 23/225 ,  H01L 21/66 J ,  G01R 31/28 L ,  H01L 21/30 502 V

F-Term (35)：

2G001AA03 ,  2G001BA07 ,  2G001CA03 ,  2G001DA01 ,  2G001FA06 ,  2G001FA08 ,  2G001GA01 ,  2G001GA06 ,  2G001GA09 ,  2G001GA10 ,  2G001GA13 ,  2G001HA07 ,  2G001HA13 ,  2G001JA02 ,  2G001JA03 ,  2G001JA09 ,  2G001JA13 ,  2G001JA20 ,  2G001KA03 ,  2G001LA11 ,  2G001MA05 ,  2G001PA11 ,  2G001PA12 ,  2G032AD08 ,  2G032AF08 ,  2G032AL00 ,  4M106AA01 ,  4M106BA02 ,  4M106BA03 ,  4M106CA39 ,  4M106DB05 ,  4M106DJ03 ,  4M106DJ19 ,  5C033FF03 ,  5C033FF06