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J-GLOBAL ID：200903053602100580

X線露光装置およびデバイスの製造方法

Inventor： 太田 裕久
Applicant, Patent owner： キヤノン株式会社
Agent (4)： 大塚 康徳 ,  高柳 司郎 ,  大塚 康弘 ,  木村 秀二
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002199217
Publication number (International publication number)：2004047518
Application date： Jul. 08, 2002
Publication date： Feb. 12, 2004
Summary：

【課題】パルス光の光量を制御する。【解決手段】露光雰囲気を制御したチャンバ内で、原版のパターンを基板に転写するX線露光装置は、パルス光を照射するための光源を制御する発光制御部(14)と、基板上に照射されたパルス光量を検出する強度モニタ部(11)と、検出されたパルス光量に基づき、チャンバ内における局所領域の露光雰囲気を変更して、照射されたパルス光の光量を制御する光量制御部(12,13)と、を有する。【選択図】 図1

Claim (excerpt)：

露光雰囲気を制御したチャンバ内で、原版のパターンを基板に転写するX線露光装置において、 パルス光を照射するための光源を制御する発光制御部と、 前記基板上に照射されたパルス光量を検出する強度モニタ部と、 前記検出されたパルス光量に基づき、前記チャンバ内における局所領域の露光雰囲気を変更して、前記照射されたパルス光の光量を制御する光量制御部と、 を有することを特徴とするX線露光装置。

IPC (2)：

H01L21/027 ,  G03F7/20

FI (3)：

H01L21/30 531A ,  G03F7/20 503 ,  H01L21/30 531E

F-Term (16)：

2H097BB01 ,  2H097CA15 ,  2H097GB00 ,  2H097LA10 ,  5F046DA01 ,  5F046DA04 ,  5F046DA27 ,  5F046DB01 ,  5F046DB03 ,  5F046DC01 ,  5F046DC10 ,  5F046DD06 ,  5F046GA07 ,  5F046GA14 ,  5F046GB09 ,  5F046GC03