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J-GLOBAL ID:200903053610263811
ナノ粒子デバイス及びナノ粒子デバイスの製造方法
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
清水 守
Gazette classification:再公表公報
Application number (International application number):JP2004012261
Publication number (International publication number):WO2005022565
Application date: Aug. 26, 2004
Publication date: Mar. 10, 2005
Summary:
高密度配列が可能なナノ粒子デバイス及びナノ粒子デバイスの製造方法を提供する。基板(1)上に非エピタキシャル成長により下地微結晶膜(2)を形成し、この下地微結晶膜(2)の材料とナノ粒子材料(4)の格子定数を適合させ、前記下地微結晶膜(2)の個々の下地微結晶の表面を微小空間として用い、前記下地微結晶にローカルにエピタキシャル成長させ、前記微小空間毎にナノ粒子を生成する。
Claim (excerpt):
(a)単層ないし多層基板と、
(b)該基板上に堆積される面内非配向かつ面外配向した下地微結晶膜と、
(c)前記下地微結晶膜の個々の下地微結晶に個々にローカルエピタキシーしたナノ粒子とを具備することを特徴とするナノ粒子デバイス。
IPC (7):
B82B 1/00
, H01F 41/18
, G11B 5/65
, G11B 5/738
, G11B 5/851
, B82B 3/00
, H01F 10/14
FI (7):
B82B1/00
, H01F41/18
, G11B5/65
, G11B5/738
, G11B5/851
, B82B3/00
, H01F10/14
F-Term (23):
5D006BB09
, 5D006CA01
, 5D006CA05
, 5D006DA03
, 5D006DA08
, 5D006EA03
, 5D006FA09
, 5D112AA03
, 5D112AA05
, 5D112AA24
, 5D112BB02
, 5D112BB07
, 5D112BD02
, 5D112FA04
, 5D112FB04
, 5D112GB02
, 5E049AA01
, 5E049AA04
, 5E049AA09
, 5E049AC05
, 5E049BA08
, 5E049DB01
, 5E049EB06
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (1)
-
垂直磁気記録媒体及びその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-374897
Applicant:富士電機株式会社
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