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J-GLOBAL ID：200903053610328026

tert-ブトキシカルボニル基で部分エステル化されたp-ヒドロキシαメチルスチレン-スチレンブロック共重合体及びその製造方法

Inventor： 渡辺 修 ,  山田 素行 ,  八木橋 不二夫
Applicant, Patent owner： 信越化学工業株式会社
Agent (1)： 小島 隆司
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992214675
Publication number (International publication number)：1994032851
Application date： Jul. 20, 1992
Publication date： Feb. 08, 1994
Summary：

【要約】【目的】 アルカリで容易に現像することができると共に、単分散性で高現像性及び高解像度を有し、機能性高分子としてレジスト材料等の用途に好適なポリマーを提供する。【構成】 重量平均分子量(Mw)/数平均分子量(Mn)が1.01〜1.5の単分散性のp-ヒドロキシαメチルスチレンとスチレンとのブロック共重合体中のポリp-ヒドロキシαメチルスチレン部の水酸基を部分的にtert-ブトキシカルボニル化して、下記構造式(1),(2)及び(3)で示される繰り返し単位を有し、かつ分子量分布が重量平均分子量(Mw)/数平均分子量(Mn)=1.01〜1.5であるポリp-ヒドロキシαメチルスチレン部の水酸基がtert-ブトキシカルボニル基で部分エステル化されたp-ヒドロキシαメチルスチレン-スチレンブロック共重合体を得る。【化1】

Claim (excerpt)：

下記構造式(1),(2)及び(3)で示される繰り返し単位を有し、かつ分子量分布が重量平均分子量(Mw)/数平均分子量(Mn)=1.01〜1.5であることを特徴とするポリp-ヒドロキシαメチルスチレン部の水酸基がtert-ブトキシカルボニル基で部分エステル化されたp-ヒドロキシαメチルスチレン-スチレンブロック共重合体。【化1】

IPC (2)：

C08F297/02 MRD ,  C08F 8/14 MGN