Pat

J-GLOBAL ID：200903053625077704

高純度非晶質ケイ酸の製造方法

Inventor： 恒松 修二
Applicant, Patent owner： 工業技術院長 ,  恒松 修二
Agent (1)： 工業技術院九州工業技術研究所長
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998218548
Publication number (International publication number)：2000034118
Application date： Jul. 15, 1998
Publication date： Feb. 02, 2000
Summary：

【要約】【課題】 不純物が少ない上、白色度が高く、比表面積が大きいことから、触媒担体や化粧品基材などとして、また耐酸性であって、ろ過係数が高いことから、特にろ過助剤として好適な高純度非晶質ケイ酸を効率よく製造する方法を提供する。【解決手段】 (1)ケイ酸カルシウムを表面張力低減剤及び水の存在下に酸処理する、(2)ケイ酸カルシウムを炭酸化処理し、次いで酸処理する際、いずれかの処理を表面張力低減剤及び水の存在下で行う、又は(3)ケイ酸カルシウムから得た非晶質ケイ酸を、表面張力低減剤及び水の混合物で処理する、ことにより高純度非晶質ケイ酸を製造する。

Claim (excerpt)：

ケイ酸カルシウムを酸処理したのち、固液分離し、固形分を乾燥して非晶質ケイ酸を製造するに当り、酸処理を表面張力低減剤及び水の存在下で行うことを特徴とする高純度非晶質ケイ酸の製造方法。

IPC (3)：

C01B 33/18 ,  B01D 37/02 ,  C01B 33/193

FI (3)：

C01B 33/18 D ,  B01D 37/02 G ,  C01B 33/193

F-Term (21)：

4D066BA01 ,  4D066CA01 ,  4G072AA25 ,  4G072BB13 ,  4G072GG03 ,  4G072HH16 ,  4G072HH23 ,  4G072JJ13 ,  4G072JJ26 ,  4G072JJ41 ,  4G072LL06 ,  4G072LL11 ,  4G072MM01 ,  4G072MM21 ,  4G072MM22 ,  4G072MM23 ,  4G072MM31 ,  4G072RR06 ,  4G072RR19 ,  4G072UU17 ,  4G072UU30

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特開平4-209717
  
• 特開昭60-081013
  
• 特開昭61-006118