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J-GLOBAL ID：200903053646514373

成膜装置、発光装置及びその作製方法

Inventor：
山崎 舜平

About 山崎 舜平


Applicant, Patent owner：
株式会社半導体エネルギー研究所

About 株式会社半導体エネルギー研究所


Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001208605
Publication number (International publication number)：2002100472
Application date： Jul. 09, 2001
Publication date： Apr. 05, 2002
Summary：
【要約】 (修正有)【課題】 印刷法を用いる際に印刷材料の溶媒が揮発することにより生じる問題を解決する。【解決手段】 発光装置の画素部に印刷法を用いてEL層を形成するための処理室(または、印刷室と呼ぶ)の圧力を大気圧(常圧)又は大気圧以上の加圧状態にし、さらに印刷室内を不活性気体で充填したり、溶媒雰囲気とすることを特徴とする。これにより、印刷材料の溶媒が揮発して変化するのを防ぐことができるため、成膜の困難性を解決することができる。
Claim (excerpt)：
EL層が形成される処理室を有する成膜装置であって、前記処理室は圧力調節機構と接続され、前記圧力調節機構により前記処理室内が大気圧以上に加圧されることを特徴とする成膜装置。
IPC (7)：
H05B 33/10 ,  G09F 9/00 342 ,  G09F 9/30 338 ,  G09F 9/30 365 ,  H05B 33/04 ,  H05B 33/12 ,  H05B 33/14
FI (7)：
H05B 33/10 ,  G09F 9/00 342 ,  G09F 9/30 338 ,  G09F 9/30 365 Z ,  H05B 33/04 ,  H05B 33/12 B ,  H05B 33/14 A
F-Term (38)：
3K007AB18 ,  3K007BA06 ,  3K007BB01 ,  3K007BB05 ,  3K007CB01 ,  3K007DA01 ,  3K007DB03 ,  3K007EB00 ,  3K007FA01 ,  3K007FA02 ,  5C094AA43 ,  5C094AA44 ,  5C094BA03 ,  5C094BA12 ,  5C094BA27 ,  5C094CA19 ,  5C094CA24 ,  5C094DA09 ,  5C094DA13 ,  5C094DB01 ,  5C094DB04 ,  5C094EA04 ,  5C094EA05 ,  5C094EA07 ,  5C094EB02 ,  5C094FB01 ,  5C094GB10 ,  5C094JA20 ,  5G435AA17 ,  5G435BB05 ,  5G435CC09 ,  5G435CC12 ,  5G435KK05 ,  5G435KK10 ,  5G435LL03 ,  5G435LL06 ,  5G435LL07 ,  5G435LL08
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (2)

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