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J-GLOBAL ID:200903053673779826

高純度ガスの系から粒子を除去する装置及び方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 石田 敬 (外4名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2001191314
Publication number (International publication number):2002066377
Application date: Jun. 25, 2001
Publication date: Mar. 05, 2002
Summary:
【要約】【課題】 高純度バスボンベ及び高純度ガス系から粒子を除去する装置及び方法の提供。【解決手段】 ガス収容容器、又は流動するガス系10にインライン式に挿入された流動管14と、この容器又は流動管14に取り付けられたシールされ電気的に絶縁されたフィードスルー22と、このフィードスルー22を通し当該容器又は流動管14に挿入された、ガス中にプラズマを生じさせてガス中の粒子を帯電させるためのエミッター12と、このエミッター12の近傍のコレクター表面20とを含み、それによりエミッター12とコレクター表面20との間の電界がガス中の粒子をコレクター表面20に引きつける装置とする。
Claim (excerpt):
下記の(a)〜(d)を含み、すなわち(a)入口と出口を有し、流動するガス系にインライン式に挿入された流動管、(b)この流動管と一体の圧力シールされ電気的に絶縁されたフィードスルー、(c)このフィードスルーを通し上記の流動管に挿入され、ガス中にプラズマを生じさせてガス中の粒子を帯電させるエミッター、及び(d)このエミッターの近傍のコレクター表面、を含み、それにより当該エミッターと当該コレクター表面との間の電界がガス中の粒子を当該コレクター表面に引きつける、高純度流動ガス系のガスから粒子を除去するための装置。
IPC (4):
B03C 3/04 ,  B01J 19/08 ,  F16L 55/24 ,  F17C 13/00 301
FI (4):
B03C 3/04 ,  B01J 19/08 K ,  F16L 55/24 Z ,  F17C 13/00 301 Z
F-Term (14):
3E072DA05 ,  3E072DA10 ,  4D054AA20 ,  4D054BB02 ,  4D054BB24 ,  4D054BC06 ,  4G075AA27 ,  4G075BD14 ,  4G075CA18 ,  4G075CA47 ,  4G075CA62 ,  4G075EB41 ,  4G075EC21 ,  4G075FC02
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (3)

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