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J-GLOBAL ID：200903053676869532
改良レーザ
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
浅村 皓 (外3名)
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：1996536840
Publication number (International publication number)：1999509978
Application date： Jun. 11, 1996
Publication date： Aug. 31, 1999
Summary：
【要約】環状レーザ空洞および偏光した軸対象レーザビームを発生するための手段を有する、主として材料加工用の工業用高出力レーザ。これらの円錐鏡は、選択性の被膜を施したアキシコンまたはワキシコンであってもよい。円錐形の空洞内鏡をそれらの同等物に使用することに基づき、好適アジマス偏光および好適ラジアル偏光したレーザビームを作るための方法。
Claim (excerpt)：
任意に、アジマス偏光成分に対してだけ高反射性で、ラジアル偏光成分に対して低反射性であり、その結果出力ビームが好適アジマス偏光になる、偏光選択性被覆をした、または第2代替手段として、任意に、ラジアル偏光成分に対してだけ高反射性で、アジマス偏光成分に対して低反射性であり、その結果出力ビームが好適ラジアル偏光になる、偏光選択性被覆をした、本質的に円錐形の空洞内鏡を利用して、好適アジマス偏光または好適ラジアル偏光の出力レーザビームを作るためのプロセス。
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (6)
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