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J-GLOBAL ID：200903053696945863

光学材料及びその製造方法

Inventor： 大久保 毅
Applicant, Patent owner： ホーヤ株式会社
Agent (1)： 塩澤 寿夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993284387
Publication number (International publication number)：1995118390
Application date： Oct. 19, 1993
Publication date： May. 09, 1995
Summary：

【要約】 (修正有)【目的】 より高い屈折率を有し、かつアッベ数は少なくとも従来品と同程度に高く維持できる、光学材料及びその製造方法の提供。【構成】 式1(式中、nは2から20までの整数である)で示される繰返し単位の1種又は2種以上を含有する重付加体である光学材料。(A成分)式2(式中、nは2から20までの整数である)で示される反応性オリゴマーの1種又は2種以上と、(B成分)一分子内に2つ以上のビニル基を有する化合物、一分子内に2つ以上のイソ(チオ)シアネート基を有する化合物、及び一分子内に1つ以上のビニル基と1つ以上のイソ(チオ)シアネート基を有する有する化合物からなる群から選ばれる1種又は2種以上とを重付加反応させる前記光学材料の製造方法。

Claim (excerpt)：

式1(式中、nは2から20までの整数である)で示される繰返し単位の1種又は2種以上を含有する重付加体であることを特徴とする光学材料。【化1】

IPC (6)：

C08G 75/04 NTW ,  C07D339/08 ,  G02B 1/04 ,  G02B 6/00 391 ,  G02C 7/02 ,  G02C 7/04