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J-GLOBAL ID：200903053708539629

高周波加熱装置

Inventor： 平井 和美
Applicant, Patent owner： 松下電器産業株式会社
Agent (1)： 岩橋 文雄 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998335409
Publication number (International publication number)：2000164342
Application date： Nov. 26, 1998
Publication date： Jun. 16, 2000
Summary：

【要約】【課題】 本発明は高周波加熱装置に関するものであり、食品を加熱するとき、食品の中心部と外周部に加熱の温度差が出にくく、均一な加熱をする。【解決手段】 加熱室11に高周波を導入するマグネトロン13と、加熱室11内には被加熱物載置台18を着脱自在に設け、この被加熱物載置台18の裏面には低誘電率材料によって構成した電波集中体20を設ける。この構成により、誘電体による電波集中体20に電波が集中することにより、食品の中央部がよく加熱され、周囲からの加熱と相まって均一に加熱することができる。電波集中体20は被加熱物載置台18の裏面に設けているので、被加熱物載置台18の表面は平坦にでき、汚れが付きにくく扱いやすい。

Claim (excerpt)：

加熱室と、前記加熱室に結合された高周波発生手段と、前記加熱室内には低誘電率材料によって構成した被加熱物載置台を着脱自在に設け、前記被加熱物載置台の裏面には電波集中体を設けた高周波加熱装置。

IPC (3)：

H05B 6/74 ,  A47J 27/00 107 ,  F24C 7/02 561

FI (3)：

H05B 6/74 E ,  A47J 27/00 107 ,  F24C 7/02 561 B

F-Term (16)：

3K090AA01 ,  3K090AB03 ,  3K090BA01 ,  3K090EA01 ,  3L086AA04 ,  3L086BB20 ,  3L086BF07 ,  3L086BF09 ,  3L086DA12 ,  4B055AA10 ,  4B055BA63 ,  4B055BA80 ,  4B055CC54 ,  4B055DB15 ,  4B055FB23 ,  4B055FC05